RESIST Skin Restoring Moisturizer with SPF 50

(5 customer reviews)

฿1,350.00 ฿1,215.00

60 ml.   Lot Exp.02/21
ครีมบำรุงที่อุดมไปด้วยสารต่อต้านอนุมูลอิสระเติมความชุ่มชื้นและปกป้องผิว ด้วยส่วนผสมเด่นๆ เช่น Niacinamide, Shea Butter และ Licorice


  • ช่วยป้องกันริ้วรอยก่อนวัยอันควร
  • สารป้องกันแดด SPF 50 ปกป้องผิวได้ทั้ง
  • เนื้อครีมเพิ่มความชุ่มชื้นให้กับผิว
  • ใช้เป็นขั้นตอนสุดท้ายของการบำรุงผิวในตอนเช้า

This antioxidant-rich moisturizer hydrates and protects with superstar ingredients like niacinamide, shea butter and licorice for flawless, younger-looking skin.

  • Helps prevent premature aging
  • Antioxidants protect against environmental stressors
  • Hydrating cream leaves a dewy finish
  • Use as the last step in your AM skincare routine


Why is it different?

RESIST Skin Restoring Moisturizer with SPF 50 protects against the entire range of sun’s UVA rays while also providing UVB protection. Powerhouse antioxidants like shea butter, coffee seed and apple are joined by tone-improving niacinamide and licorice for skin whose appearance gets better with each use.

What does it do?

Broad spectrum SPF 50 helps prevent premature aging while helping to improve skin health and hydration. Leaves a soft, dewy finish and provides superior anti-aging benefits.The SPF 50 is a significant benefit as it decreases the risk of skin cancer and early skin aging caused by the sun if used as directed with other sun protection measures.


Active Ingredients: Avobenzone 3%; Homosalate 5%; Octinoxate 7.50%; Octisalate 5%; Oxybenzone 5% (sunscreen actives). Inactive Ingredients: Water (Aqua), Silica (opacifier and texture enhancer), Glycerin (hydration), Cetearyl Alcohol (texture enhancer), Dimethicone (hydration), Butylene Glycol, Pentylene Glycol (hydration), Potassium Cetyl Phosphate (emulsifier), Cyclopentasiloxane (hydration), Pyrus Malus (Apple) Fruit Extract (skin-restoring), VP/Eicosene Copolymer (texture enhancer), Butyrospermum Parkii (Shea) Butter (emollient), Allantoin (skin soothing), Niacinamide (skin-restoring), Tocopherol (vitamin E/antioxidant), Glycyrrhiza Glabra (Licorice) Root Extract (skin soothing), Aloe Barbadensis Leaf Juice (hydration, soothing), Atractylodes Macrocephala Root Powder (antioxidant), Avena Sativa (Oat) Kernel Extract (skin soothing), Coffea Arabica (Coffee) Seed Extract, Portulaca Oleracea Extract, Mahonia Aquifolium Root Extract, Diethylhexyl Syringylidenemalonate (antioxidants), Sarcosine, Capryloyl Glycine, Maltooligosyl Glucoside, Cetearyl Glucoside (skin softeners), Dimethiconol (texture enhancer), Acrylates/C10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer (stabilizer), Hydrogenated Starch Hydrolysate (hydration), Hexylene Glycol (texture enhancer), 4-T-Butylcyclohexanol (emollient), Glyceryl Stearate, PEG-100 Stearate (texture enhancers), Sodium Hydroxide (pH adjuster), Xanthan Gum (stabilizer), Disodium EDTA (chelating agent), Phenoxyethanol, Caprylyl Glycol (preservatives), Ethylhexylglycerin (skin softening).

How To Use

Use as the last step in your AM skincare routine. Apply liberally 15 minutes before sun exposure. If not applied liberally, you’ll need to reapply every two hours after skin is exposed to direct sunlight. If you plan to swim or perspire, you must apply a water-resistant sunscreen.

5 reviews for RESIST Skin Restoring Moisturizer with SPF 50

  1. Zigheart

    ให้ 5 ดาวเลยค่ะ เรามั่นใจในยี่ห้อนี้อยู่แล้ว ที่บ้านใช้ของ Paula’s Choice ทุกตัว ตัวนี้ใช้แล้วไม่ผิดหวังค่ะ

  2. Deathnote

    เหมาะสำหรับคนผิวแห้ง ใช้แล้วสิวไม่ขึ้น กันแดด ได้ดี ทาแล้วหน้าไม่วอก ไม่มันเงา

  3. Naiin

    ก่อนหน้านี้ลองกันแดดมาหลายตัว บางตัวใช้แล้วก็เหนียวบ้าง เยิ้มบ้าง แล้วก็เป็นแค่กันแดดเฉยๆ ด้วย แต่ตัวนี้เป็นทั้งบำรุงและผสมกันแดด ไม่เหนียว ไม่เยิ้มกันแดดได้ดี ให้ 5 ดาวเลยครับ

  4. Marriot

    ฉันหาครีมบำรุงผสมกันแดดมานานมาก และหาไม่ได้ซักที ที่เหมาะสำหรับผิวแห้งอย่างฉัน ขอบคุณ Paula’s Choice ที่ทำให้การค้นหาของฉันจบซักที

  5. well

    เลิศมาก..ใช้แล้วไม่เหนียวเหนอะหนะ..ซึมเร็ว.. เหมาะสำหรับผิวแห้งอย่างเรา..มีส่วนผสมของantioxidantใส่มาด้วย..ดีมาๆ เลย

Add a review

Your email address will not be published. Required fields are marked *